近日，天津檢驗檢疫局研制的“納米尺度測量標準器”獲得國家實用新型專利授權。該項目采用國際先進的聚焦離子束刻蝕技術，具有分辨率高、線距均勻、材料穩定、設計獨特等特點，可以滿足不同形狀樣品的比對測量需求，有效解決了納米尺度更準確的測量問題，填補了納米材料領域標準器國內空白，達到國際先進水平。

      隨著納米科技飛速發展，用于測量納米尺度的高分辨率測量器具一直是人們所關注的課題，為了得到更準確的測量結果，需要有一個更接近于樣品尺度的標準物質??納米標準器。

      天津局課題組經過兩年的刻苦鉆研，通過精選納米標準器材質，采用先進的聚焦離子束刻蝕技術，研制成功一種新型的用于掃描電鏡納米尺度測量的納米標準器。該納米標準器分辨率高，具有78納米的標準周期線距，遠小于目前公認的S1000標準器的線距1000納米（1微米），是真正意義上的納米級標準器，并且保證每個刻度周期線距的均勻性和一致性，可使得最小線距整數倍的距離都可以作為標準長度來比對，材料膨脹系數低、性能穩定，設計將橫線、豎線、點陣和圓環形狀的標準刻度融于一體，可以滿足不同形狀樣品的比對測量需求。