5月7日，美國材料研究學會(Materials Research Society，MRS)官方網站的“材料研究當前新聞”(Current research news of Materials News)欄目，以“光柵刷子能清潔原子力顯微鏡的探針針尖”為題，報道了哈爾濱工業大學化工學院甘陽教授發表在Ultramicroscopy上的原創性研究成果(合作者為墨爾本大學的Franks教授，“Cleaning AFM colloidal probes by mechanically scrubbing with supersharp ‘brushes’”, Ultramicroscopy, Volume 109, Issue 8, July 2009, Pages 1061-1065.)。這是甘陽教授繼2009年受邀在《表面科學報告》(Surface Science Reports)上發表獨立署名特邀綜述后，又一引起國際關注的成果。

　　該報道稱：“清潔原子力顯微鏡(atomic force microscope，AFM)針尖是AFM可靠成像和力測量的關鍵。研究者現在發現，具有超尖刺突的標定光柵作為‘刷子’，可用來機械清除AFM探針上的污染物，這是通過把探針在加大力的恒力模式下掃描刺突來實現。這一方法，不但能用來無損、高效地去除有機和無機污染物，而且可以實現污染物去除和探針研究的一步完成。此外，該方法既可用來清潔膠體/顆粒探針，也可以用來清潔標準AFM針尖。”

　　甘陽教授認為，作為一種新型的表面污染物“定點”清除方法，該方法的應用遠不限于清潔原子力顯微鏡探針，更有望在廣泛的表界面研究、微電子等領域中得到廣泛的應用。