據(jù)港臺媒體報道，上海宏力半導(dǎo)體日前透露，該公司將從美國一家IDM廠商處引進0.13微米制造工藝，目前的洽談情況已進入最后階段。若雙方最終達成協(xié)議，將可從美國引進先進的半導(dǎo)體制造工 藝，這也暗示冷戰(zhàn)后制訂的Wassenaar協(xié)議可能因此瓦解，該協(xié)議主要是限制向中國大陸提供可能用于軍事方面的相關(guān)高端技術(shù)。 　　目前，中國大陸半導(dǎo)體公司主要依賴的是日本公司取得的制造工藝，范圍從0.15微米到0.5微米。宏力沒有透露將向其轉(zhuǎn)讓130納米工藝的美國廠商的名字，但宏力公司執(zhí)行副總裁王鼎表示，宏力將在2004年底前布署和試行，2005年下半年開始供應(yīng)0.13微米芯片。 　　王鼎還透露，計劃在2005年與同一家美國公司合作開發(fā)90納米制造技術(shù)。他說，可能在一個月后公開這家美國公司的名字。市場調(diào)查公司Semico分析師Joanne Ito認為，宏力潛在的合作伙伴不多，可能包括飛思卡爾半導(dǎo)體(Freescale Semiconductor)和LSI Logic，另外IBM和德州儀器也有可能，但可能性相對較低，因為目前他們都與其它晶圓代工廠商有合作關(guān)系。